化学镀镍技术因工艺设备简单，镀液分散能力好，镀层厚度均匀，较电镀技术有独特的优越性而被广泛应用。当化学镀镍溶液老化，成为化学镀镍废液时，废液中存在大量的镍离子、亚磷酸钠、次磷酸钠、pH缓冲剂及稳定剂等有机物。未经处理的化镍废水不经处理，会对环境造成严重的污染。

典型的化学镀镍工艺以次磷酸盐为还原剂，废水中的为络合态的镍、磷酸盐、有机物等。目前该废水的处理方法有电解法、离子交换法、化学沉淀法。

化学沉淀法是传统且常用出咯化学镀镍废水的方法，一般讲各种沉淀剂加入化学镀镍废水中，这些物质可以与废液中的亚磷酸根或镍离子反应形成沉淀，从而从废液中去除。这种方法会存在对次亚磷酸根去除不彻底的问题。

基于化学沉淀法的基础，本文提出一种新型化学镀镍废水处理技术即次亚磷去除剂水处理剂，该产品采用均相共沉淀技术，能够与次亚磷酸盐结合生成不溶性沉淀，达到去除完全的目的。次亚磷去除剂(HMC-P3)是专门针对化学镀镍废水中次亚磷酸盐而研发的，工艺简单、产生的污泥少，并且具有除重金属，降COD等多重效果。其实验效果如下：

该次亚磷去除剂投加过程中，一定要注意PH的调节，保证沉淀时间。在测试过程中最好采用二次沉淀，以防止多余的次亚磷去除剂干扰，经过这种方法，次亚磷酸盐完全沉淀而去除，达到国家排放标准0.5mg/L。

次亚磷去除剂HMC-P3适用范围包括两大领域：一为次亚磷废水，利用均相共沉淀技术，当HMC-P3溶于废水中时，与次亚磷通过均相反应结合为固体沉淀，再通过混凝形成基团较大的絮状物，最后固液分离实现去除；二为有机磷废水，有机磷通常为结构较复杂的大分子物质，可将其简单氧化为次亚磷，再通过HMC-P3的均相沉淀原理实现去除。