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KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 溅射沉积铝锰合金薄膜
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KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 辅助溅射沉积 MnZn 铁氧体薄膜
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KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 辅助磁控溅射制 TiSiN-Ag 薄膜
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KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积 Ir 膜
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KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 溅射沉积 Ti-B-C 薄膜
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KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积 ZrAlN 薄膜
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KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 溅射制备微晶硅薄膜
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KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 溅射沉积立方氮化硼薄膜
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KRi 大面积射频离子源应用于 12英寸,8英寸 IBE 离子束蚀刻系统
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KRi 离子源 e-beam 电子束蒸发系统辅助镀膜应用
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KRi 射频离子源 IBSD 离子束溅射沉积应用
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美国 KRi 考夫曼离子源 KDC 40 热蒸镀机应用
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KRi 考夫曼离子源表面预清洁 Pre-clean 应用
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KRI 射频离子源典型应用 LED-DBR 辅助镀膜
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上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 160
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上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 100
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上海伯东美国原装进口考夫曼离子源 KDC 系列
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上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH200
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上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH 3000
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上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH 2000
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