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等离子去光阻机
来自:招远普斯玛等离子技术有限公司
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发布时间:2012-11-7
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产品参数
商品详情
采用电感耦合高密度等离子体(ICP),能快速去除晶圆上之残留光阻,达到晶圆表面洁净,具有蚀刻率高,无电极污染,离子能量低,不损伤基板等优点。
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