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KRI 考夫曼聚焦型射频离子源用于制备类金刚石薄膜
KRI 考夫曼聚焦型射频离子源用于制备类金刚石薄膜
来自:伯东企业(上海)有限公司
13人民币
发布时间:2020-10-30 关注次数:164
产品参数
产品参数
品牌 KRI
规格型号 KRI 聚焦型射频离子源 RFICP 380
编号 齐全
计量单位
付款方式 款到发货
价格单位 人民币
商品详情

国内某制造商在钛合金表面制备一层类金刚石薄膜 DLC, 以期改善钛合金表面摩擦学性能, 为了获得均匀且致密的类金刚石薄膜, 采用伯东 KRI 聚焦型射频离子源 RFICP 380 制备类金刚石薄膜.

伯东 KRI 聚焦型射频离子源 RFICP 380 技术参数:

射频离子源型号

RFICP 380

Discharge 阳极

射频 RFICP

离子束流

>1500 mA

离子动能

100-1200 V

栅极直径

30 cm Φ

离子束

聚焦

流量

15-50 sccm

通气

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型压力

< 0.5m Torr

长度

39 cm

直径

59 cm

中和器

LFN 2000

 

推荐理由:

使用 KRI 聚焦型射频离子源 RFICP 380可以准确、灵活地对样品选定的区域进行沉积和刻蚀.

 

运行结果:

1. 沉积的类金刚石薄膜厚度约为 1.0 μm, 薄膜均匀且致密, 表面粗糙度Ra为13.23nm

2. 类金刚石薄膜与基体结合力的临界载荷达到31.0N

3. DLC薄膜具有良好的减摩性, 摩擦系数为0.15, 耐磨性能得到提高

 

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵检漏仪质谱仪真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

 

 

若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:

上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
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