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8NPPB湿法显影机清洗腐蚀Laurell腐蚀机EDC-650Hz-8NPPB
8NPPB湿法显影机清洗腐蚀Laurell腐蚀机EDC-650Hz-8NPPB
来自:武汉迈可诺科技有限公司
65.00人民币
发布时间:2023-9-13 关注次数:99
产品参数
产品参数
品牌 Laurell
规格型号 完善
编号 齐全
计量单位
付款方式 面议
价格单位 人民币
商品详情
产品参数
品牌Laurell
是否支持加工定制
是否进口
操作方式智能程控
转速范围0-12000rpm
加速度范围0-12000rpm
工艺时间1-5999.9 sec/step
存储程序20条
程序步骤51步
转速分辨率1rpm
处理基片尺寸10-200mm
腔体材质NPP聚丙烯
试剂种类可选配至5种
标准配置带有样品清洗,氮气吹扫
可售卖地全国
型号EDC-650Hz-8NPPB

一、湿法腐蚀机用途和特点:

1、 用途:主要用微细加工、半导体、微电子、光电子和纳米技术工艺中在硅片、陶瓷片上显影,湿法腐蚀,清洗,冲洗,甩干与光刻、烘烤等设备配合使用。设备能满足各类以下尺寸的基片处理要求,并配制相应的托盘夹具。

2、湿法腐蚀机特点:

(1)外观整洁、美观,占地面积小,节省超净间的使用面积;

(2)VoD顶盖阀门控制技术 避免二次污染;

(3)显影腐蚀液独立的试剂供给管路;

(4)处理腔内差压精准控制;

(5)满足2英寸~8英寸的防腐托盘;

(6)试剂注射角度可调节;

(7)独特设计的“腔洗”构造,保证“干进干出”;

(8) 湿法腐蚀机具备高性能、低故障率、长使用寿命、易操作维修、造型美观、售后服务完备。

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湿法腐蚀机主要性能指标:
1. 系统概述

1.1智能嵌锁,系统盖板具有智能嵌锁装置,确保操作安全;

1.2保护气体,CDA(清洁干燥气体)/氮气(N2),气压60~70PSI;

1.3通信接口,蓝牙连接;

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2. ?基片及处理方式

2.1 基片尺寸满足直径200mm以内基底材料;

2.2 基片处理方式,手动上下载;

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3. 控制系统

3.1 用户界面,650高精度数显屏/基于Windows的SPIN3000操作软件;

3.2 最大可存储20个程序段;

3.3 最大51 骤工艺步骤;

3.4时间设定范围,0.1S~99Min59.9S(最小增量0.1 S);

3.5最大旋转速度,3,000 rpm,±0.5 rpm (带安全罩);

3.6马达加速度,1–12,000 rpm/s ;

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4. 试剂分配系统

4.1 化学试剂分配

4.1.1 ?A标准腔洗 Bowl Wash ?1路纯水和1路氮气;

4.1.2 ?B 背部清洗 Back Riser 1路纯水;

4.1.3 ?C 样片冲洗甩干 1路纯水和1路氮气;

4.1.4 ?D 自定义化学试剂可同时接入(根据用户应用选择几路液体)自定义的化学试剂(显影液/腐蚀液/其他清洗液);

4.2试剂供给方式

*4.2.1 ?A 系统所需纯水和氮气以及压缩气体(可用氮气替代)由实验室自行供应;

4.2.2 ?B 自定义化学试剂由气动泵浦BP和压力容器供给;

4.3 注射装置采用日本原装进口雾的池内专用喷嘴;

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三、适用工艺(包括但不限于下述湿法制程)

光刻胶显影(KrF/ArF)

SU8厚胶显影

显影后清洗

PostCMP清洗

光罩去胶清洗

光刻胶去除

金属Lift-off处理

刻蚀微刻蚀处理

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迈可诺技术有限公司

客服热线:4008800298

Q Q:3488598979









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