光刻掩膜版（又称光罩，英文为Mask Reticle），简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。

不锈钢掩模板是以不锈钢材料为基板生产的掩模板，此掩模板的特是平整度好、精度高、金属硬度高可以反复使用，适用于蒸镀线路、电极、芯片层等。受高校研发部门、科研所喜爱。

芯片掩模板用于芯片线路蒸镀使用，优质的材料再结合本公司多年生产经验，制造的掩模板平整度高、精度高，利于掩模图像的转移，适合芯片生产厂家和高校实验室。

掩膜版的功能类似于传统照相机的底片。制造商通常根据客户所需要的图形，用光刻机在原材料上光刻出 相应的图形，将不需要的金属层和胶层洗去，即得到掩膜版。掩膜版的原材料掩膜版基板是制作微细光掩膜图形的感光空白板。通过光刻制版工艺，将微米级和纳米级的精细图案刻制于基板上制作成掩膜版。掩膜版的作 用主要体现为利用已设计好的图案，通过透光与非透光方式进行图像（电路图形）复制，从而实现批量生产。