产品特点：坩埚内部真空环境，能在多种气氛下工作，50段程序控温

升温快速度：0~30℃/min（建议15℃）

控温方式：50段智能化程序PID模糊控制

恒温精度：±1℃

控温仪表：智能温控仪

密封方式：磁流体密封搅拌系统与坩埚，顶部带有双层水冷；侧面进料与流料，流料口法兰密封

炉膛：氧化铝多晶纤维炉膛，设计合理，，保温性能好，节能

主要配件：密封法兰1套，坩埚1个，真空泵1台，高温手套1副,热电偶1根

真空极限：≤0.1MPa

此系列埚炉可电动控制炉体倾斜出料，炉膛内部为不锈钢坩埚，顶部配有搅拌系统，整个坩埚为密封状态，可实现真空与气氛烧结。

该系列设备的控制系统具有，操作简单，控温精度高，保温效果好，炉膛温度均匀性高，可通气氛抽真空等特点，应用于高等院校，科研院所，工矿企业等实验和小批量生产。

真空井式坩埚炉以电阻丝或者硅碳棒为加热元件，采用双层壳体结构和智能化程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，具有真空和搅拌装置，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。

主要用途：高校、科研院所、工矿企业主要用于煅烧真空或惰性气体中的高纯度化合物，退火或扩散半导体晶片，也可以用于烘烧或烧结陶瓷材料等。