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Neutronix-Quintel光刻机，NXQ4006紫外掩膜曝光，MaskAlignment
来自：武汉迈可诺科技有限公司
185.00人民币
发布时间：2024-11-1
关注次数：3
产品参数
商品详情
| 产品参数 | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | NeutronixQuintel | ||
| 是否支持加工定制 | 否 | ||
| 是否进口 | 是 | ||
| 重量 | 217kg | ||
| 外形尺寸 | 1220mm x 915mm x 1423mm | ||
| 真空 | -0.7 bar (21” Hg) | ||
| Voltage | 240VAC 50Hz | ||
| Compressed Air | 5.4 bar (80 PSI) | ||
| Nitrogen (or CDA) | 3 bar (40 PSI) | ||
| 紫外灯 | 350/500W or 500/1KW | ||
| Mask Size | 3”x3” up to 9”x9” | ||
| 可售卖地 | 全国 | ||
| 型号 | NXQ4006 | ||
1.光刻机主机
1.1具有稳定可靠的芯片厚度补偿系统；
1.2 PLC控制系统，可进行工艺参数的编程，操作便捷；
▲1.3具有自动执行楔形误差补偿，并在找平后自动定位功能；
1.4采用LED穿透物镜照明技术，具有超强对准亮度；
1.5配套集成式防震台；
-LED紫外线灯罩?
-曝光波长365405435nm
-LED寿命长，无需维护
-恒定强度，无需每天调整
-即时开启-不使用时无需开启
-低功耗
-闭环液体冷却系统
-具有MS Windows界面的基于PC的控件
-基于Windows 10的菜单驱动图形用户界面
-配方设置功率电平
-g、h和i线紫外线强度的独立控制
-配方设置从20到100输出
-365时可编程范围为6mw-30mw/cm2
-405时可编程范围为15mw-75mw/cm2
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