紫外光刻系统
1、曝光面积：110mm×110mm

2、曝光波长：365nm（纯净光源）

2、分辨力：　1.5μm

3、对准精度 ± 1μm

4、掩模样片整体运动范围：X：6mm;Y:6mm

5、掩模尺寸：2.5寸、3寸、4寸、5寸

6、直径Ф15mm--Ф100mm、厚度0.1mm--6mm(可扩展为15mm)；

7、照明均匀性：±3

9、掩模相对于样片运动行程： X:±5mm; Y:±5mm; θ: ±6度

10、汞灯功率：200W

11、曝光量设定：定时曝光 定时（到计时方式 0.1s-999s任意设定、设定精度0.1s）

12、双目双视场显微镜：物镜三队：4X、10X、20X，目镜三对：10X、16X、20X或者 升级为无极变倍，观测更加方便。

应用领域

集成电路芯片、电子封装、微电子机械系统、微光学元件、红外探测器生物电泳芯片、激光二极管光刻、光栅光刻，波导阵列光刻、液晶显示声表器件、平板显示器、大尺寸光栅、码盘刻划等