一、产品名称概述：

管线式碳管硅凝胶漆研磨分散机,在线式碳纳米管硅凝胶漆研磨分散机,在线式硅凝胶研磨分散机,超高速硅凝胶研磨分散机，高剪切硅凝胶研磨分散机

二、硅凝胶简介：（1—7—7—1—7—0—1—4—6—6—9）

1.有机硅凝胶在电子工业上广泛用作电子元器件的防潮、偷运、绝缘的涂覆及灌封材料，对电子元件及组合件起防尘、防潮、防震及绝缘保护作用。如采用透明凝胶灌封电子元器件,不但可起到防震防水保护作用，还可以看到元器件并可以用探针检测出元件的故障，进行更换，损坏了的硅凝胶可再次灌封修补。  

2.有机硅凝胶由于纯度高，使用方便，又有一定的弹性，因此是一种理想的晶体管及集成电路的内涂覆材料,可提高半导体器件的合格率及可靠性；有机硅凝胶也可用作光学仪器的弹性粘接剂。

3.碳纳米管的应用十分广泛，不仅应用于橡胶、工程塑料、合成树脂等复合材料上用于提高材料应力水平，还可用于导电材料，电磁屏蔽材料，锂电池、燃料电池、胶体铅酸电池的电极改性，以及新型高速光电传感器 。

三、设备介绍：

1.在线式碳纳米管硅凝胶漆研磨分散机就是研磨分散机是高效、快速、均匀地将一个相或多个相(液体、固体)进入到另一互不相溶的连续相(通常液体)的过程的设备的设备。当其中一种或者多种材料的细度达到微米数量级时，甚至纳米级时，体系可被认为均质。当外部能量输入时，两种物料重组成为均一相。高剪切均质机由于转子高速旋转所产生的高切线速度和高频机械效应带来的强劲动能，使物料在定、转子狭窄的间隙中受到强烈的机械及液力剪切、离心挤压、液层摩擦、撞击撕裂和湍流等综合作用，形成悬浮液（固/液），乳液（液体/液体）和泡沫（气体/液体）。高剪切均质机从而使不相溶的固相、液相、气相在相应熟工艺和适量添加剂的共同作用下，瞬间均匀精细的分散乳化，经过高频高剪切分散研磨分散机的循环往复，ZUI终得到稳定的高品质产品。  

2.GMD2000系列产品与传统的设备对比：

⑴传统设备需要8小时的分散过程，GMD2000设备1小时就可以完成，更加高效、节能。

⑵传统设备的搅拌转速每分钟几十转，带有分散功能的每分钟转速也在1500转之内，而3.GMD2000系列每分钟转速可达到5000-6000转，更加快速。超高的线速度产生的剪切力，使物料瞬间细化分散，从而获得更高品质的产品。

4.GMD2000系列与同类设备的对比：

⑴发热问题。同类设备在加工过程中，高粘物料进入腔体后，因背压力大而输送效果差，导致物料在设备腔体中停留时间过长而导致严重发热。GMD2000系列设备在确保效果的基础上，减小了背压阻力，提高了输送能力，减少了停留时间，降低了物料发热的状况。

⑵多层多向剪切分散。同类设备定、转子等部件结构单一，多级多层的结构只是单纯的重复性加工，相同的齿槽结构易发生物料未经分散便通过工作腔的短路现象。GMD2000系列定、转子结构采用多层多向剪切的概念，装配式结构使物料得到不同方向的剪切分散，杜绝短路现象，超细分散更加彻底。

四、上海思峻研磨分散机的选型表：（1—7—7—1—7—0—1—4—6—6—9）

 1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

 2 处理量取决于物料的粘度,稠度和zui终产品的要求。

 3 参数内的各种型号的流量主要取决于所配置的乳化头的精密程度而定。

 4 本表的数据因技术改动,定制而不同,正确的参数以提供的实物为准

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