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CVD PECVD 气相沉积炉-西尼特(北京)电炉有限公司
CVD PECVD 气相沉积炉-西尼特(北京)电炉有限公司
来自:西尼特(北京)电炉有限公司
面议
发布时间:2012-10-30 关注次数:710
产品参数
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品牌 西尼特(北京)电炉有限公司
规格型号
编号
计量单位
付款方式 面议
价格单位 人民币
商品详情
※产品描述:
CNT公司PECVD设备主要由全真空专用不锈钢腔体,分子泵高真空系统,电源,生长机体载体及温控系统,独立排气和生长压力调节系统,冷却循环水辅助设备等组成。整机结构紧凑、操作方便、抽真空速度快。此设备控制系统采用逻辑按钮手动控制与工控机自控控制可选。实现真空抽气和镀膜工艺一体化功能。此设备可用于制作SiO2、Si3N4、非晶Si:H、多晶Si、SiC、W、Ti-Si、GaAs、GaSb等介电、半导体及金属膜等。
 
 
 
 
 
 
 
※技术指标:
 
 参 数 名 称
单   位
配置
沉积类型
 
二氧化硅,氮化硅,类金刚石等
电   源
 
射频电源,带正向功率和反射功率计指示,带匹配器
加热系统
 
平板式双反应室系统,带加温和匀气系统
工 作 温 度
100~600℃
基片台尺寸
(φ×H)mm
1英寸、二英寸、三英寸、四英寸
基片台转速
 
转速0-20RPM
控 温 精 度
±1
极限真空
pa
8.0×10-5
密封系统
 
磁流体密封
水冷、气路系统
 
冷却水循环机、无噪声气泵
报警及保护
 
对缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警及相应保护措施
真空系统 
(选 配)
真空系列
单级机械泵、扩散泵机组、分子泵
工作腔体
不锈钢
气氛系统
浮子流量计、进口、国产质量流量计
记录装置
进口、国产无纸记录仪
备注:西尼特可根据阁下要求提供各种非标产品的设计制造,欢迎来函、来电咨询!   
      24小时热线:400-668-6260   18610138965    Fax:010-51418223
  cntdl@sina.com                     http://www.cimitdl.com
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