日本伊藤itoh粉碎用研磨介质球，高纯氧化铝球，氧化锆球

●月球（SiO）

适用于一般的研磨介质，例如大型行星旋转球磨机。二氧化硅成分为99.9％以上。

比重：2.6
硬度：莫尔斯7
尺寸：φ2，φ3，φ5，φ7，φ10
，φ12 ，尺寸：φ15，φ20，φ25，φ30mm

●砂砾石（SiO）

Menor碎石（抛光）适用于研磨介质，例如大型球磨机。
Meno棒是振动杯磨机桶中使用的材料之一。

（以上粒度范围的1,2,3,5,10毫米始终可用）

中心处装有一个电镀铁芯。它具有很高的表面硬度，可以用少量的无机污染物进行处理。它具有出色的耐溶剂性和耐磨性。

尺寸：φ10，φ15，φ20，φ25mm

*还有一个实心的尼龙球。
请与我们联系以获取尺寸。

具有铁芯的球可增加比重并提高研磨效率。它具有出色的抗粘连效果和耐磨性。
尺寸：φ10，φ15，φ20，φ25mm

*以下两种重量仅适用于φ25mm铁芯。

尺寸：英寸毫米
    φ1/ 4（φ6.35 毫米）
    φ3/ 8（φ9.52毫米）
    φ1/ 2（φ12.7毫米）
    φ3/ 4（φ19.1
    毫米）φ1（φ25.4毫米）*集成
聚四氟乙烯球也如上所述有相同的大小。

高纯度氧化铝球特别适用于破碎工业陶瓷和电子元件材料的球，这些球可在破碎过程中抵抗除氧化铝以外的杂质混合。
它具有出色的耐磨性和99.9％的高纯度，因此几乎没有混合氧化铝成分以外的杂质。
尺寸：φ5，φ10，φ15，φ20，φ25mm

它具有出色的耐磨性和抗冲击性，并减少了污染。由于具有高密度和接近真实球体的形状，因此可以提高破碎效率。
尺寸：3，4，5，6，8，10，15，20，25，30（Φmm）

包含93％的氧化铝和5％的二氧化硅的球，适用于除超硬材料以外的常规研磨。
真密度：3.6 g / cm ³
HV硬度：17.2 GPa
尺寸：φ1至φ30mm

适用于粉碎和分散不喜欢混合SiO 2和Al 2 O 3组分的球。对于高粘度的湿法研磨和分散也有效。可广泛用于磁性材料，压电材料，介电材料，精细陶瓷，颜料，涂料，生物材料等。
尺寸：φ0.03至φ25mm

●大尺寸氧化锆球

引进直径30mm，40mm和50mm的大直径氧化锆球，它们具有高强度，韧性和耐用性的特征。您可以预期具有大粒径的破碎，它既具有破碎效率，又具有耐磨性。

氮化硅（氮化硅）球，硬度约为HV 1,600 *。
该成分是93％的氮化硅，3.1％的钇，3.6％的铝，0.20％的铁，0.03％的钙。
*基于JIS R 1610（2003）硬度测量。
真密度：3.20
尺寸：φ2mm，φ3mm，φ4mm，φ5mm

●HIP处理氮化硅球

经过HIP处理的高精度氮化硅球。
组成为88％氮化硅，6％钇，3.8％铝和1.8％钨。
尺寸φ2、3、5mm
*组件的数值为参考值。

●φ1mmHIP处理氮化硅球

我们收到了许多要求和询问，新增加了Φ1mmHIP处理的氮化硅球。

碳化硅
硬度：HV 2,100
真实密度：3.10
尺寸：φ3，φ5，φ10mm

●φ3mm碳化硅球

除常规的2种尺寸外，还增加了新的φ3mm直径。
硬度：HV 2,400
真实密度：3.10〜3.15
成分：SIC 98.7％

一种用于研磨碳化硼的颗粒介质，其硬度仅次于金刚石和氮化硼。颗粒的形状是短圆柱体，尺寸约为φ7mm x 5.5 mm。
硬度：2769

元素测量（通过X射线荧光分析仪测量所有元素）

适用于使用极高纯度石英的球磨机的石英球。由于与其他普通破碎球相比，它是一种具有极高硬度的材料，因此当与石英锅配合使用时，破碎后样品的污染将非常小，甚至为零。
尺寸：5mm，10mm，15mm，20mm