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KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 用于铝表面溅射沉积 ZrN 薄膜
2021-1-12 118
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 辅助磁控溅射沉积 Cu-W 膜
2021-1-11 68
Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 用于陶瓷基片银薄膜减薄
2021-1-8 73
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 溅射制备类金刚石 Ta-C 涂层
2021-1-7 86
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射制备堵片传感器薄膜
2021-1-6 77
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 应用于 AlTiN 涂层研究
2021-1-5 93
伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 溅射制备 VO2 薄膜
2021-1-4 99
KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 制备高性能光通信带通滤光膜
2020-12-30 58
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 溅射制备 MnGe 量子点
2020-12-29 57
KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP380 溅射镀制 TC4 表面 TiN 涂层
2020-12-28 76
KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 辅助溅射制备 LaF3 薄膜
2020-12-25 77
KRI 考夫曼聚焦射频离子源 RFICP380 辅助制备原子探针样品
2020-12-24 69
Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 用于制作闪耀罗兰光栅
2020-12-23 127
hakuto 离子刻蚀机 7.5IBE 用于氮化硅刻蚀工艺研究
2020-12-22 103
hakuto 离子刻蚀机运用于 PDMS 软刻蚀用母模板研究
2020-12-21 99
KRI RFICP325 离子源已成功应用在塑料光学镜头应用
2020-12-18 74
hakuto 离子刻蚀机 10IBE 制作DNA芯片模板
2020-12-16 84
hakuto 离子刻蚀机 20IBE 刻蚀滤波器钽酸锂晶片
2020-12-14 72
hakuto 离子刻蚀机 10IBE 用于多晶黑硅损伤去除与钝化性能研究
2020-12-11 82
hakuto 离子刻蚀机 7.5IBE 用于芯片制造中厚铝刻蚀
2020-12-10 111
Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 运用于铁电薄膜研究
2020-12-9 70
Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C 用于蚀刻 KDP 晶体
2020-12-8 80
Hakuto 全自动离子刻蚀机 MEL3100用于蚀刻覆铜板
2020-12-7 68
Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 用于光学器件精密加工
2020-12-4 80
Hakuto 离子蚀刻机 20IBE 去除印刷电路板污染物
2020-12-2 67
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