返回 资讯中心
Hakuto 全自动离子刻蚀机 MEL 3100 应用于集成电路制造中刻蚀
2020-11-30 75
Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 应用于硬盘 GMR 磁头
2020-11-26 67
Hakuto 全自动离子刻蚀机 MEL3100 用于刻蚀薄膜磁盘
2020-11-25 112
Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE 用于刻蚀硅微机械陀螺芯片
2020-11-24 91
Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 用于提升碳化硅微光学元件的品质
2020-11-23 87
Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-C 用于半导体晶圆刻蚀
2020-11-20 70
伯东离子刻蚀机 IBE 用于金铜镍银铂等材料微米级刻蚀
2020-11-19 78
伯东 KRI 考夫曼平行型射频离子源 RFICP220 辅助 DC/DC 混合电路生产
2020-11-18 89
伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 用于镀制 TiN 薄膜
2020-11-17 96
伯东 KRI 考夫曼霍尔离子源 eH 3000用于玻璃基片清洗
2020-11-16 72
伯东 KRI 考夫曼射频离子源在 PCB 钻头铣刀上的应用
2020-11-13 124
伯东 KRI 考夫曼射频离子源用于纯钛表面氨基化改性的研究
2020-11-11 79
伯东 KRI 考夫曼离子源 KDC 160 辅助沉积高铝超硬涂层增强切削性能
2020-11-10 101
伯东 KRI 离子源用于大口径光学元件 KDP 晶体的溅射与刻蚀
2020-11-9 87
KRI 考夫曼聚焦型射频离子源用于制备类金刚石薄膜
2020-10-30 99
KRI 考夫曼离子源 KDC 100 辅助镀制五金连接件铬膜
2020-10-29 65
伯东 Pfeiffer 氦质谱检漏仪用于镀铬真空容器检漏
2020-10-28 114
KRI 聚焦型射频离子源 RFICP 380用于制备超薄 TEM 样品
2020-10-26 88
伯东 KRI 考夫曼霍尔离子源 eh 3000 用于清洗 PPS/ PEEK 衬底面
2020-10-23 122
伯东 KRI 射频离子源 RFICP 220用于 ZAO 透明导电薄膜及性能研究试验
2020-10-22 70
首页123尾页