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KRI 射频离子源成功用于辅助制备 MoS2 自润滑涂层
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伯东 KRI 离子源辅助蒸发沉积镀铝膜, 改善铝膜结构及耐腐蚀性
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镀膜制品掉膜的主要原因是…
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伯东 KRI 射频离子源 RFICP 380 成功用于辅助蒸镀 TiO_2薄膜
11人民币
伯东 KRI 射频离子源和分子泵组用于氧化物溅射镀膜设备
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KRI 射频离子源在光学加工中具有高的去除率和好的稳定性
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上海伯东美国 KRI 线性霍尔离子源 eH Linear
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上海伯东美国 KRI 霍尔离子源 eH 400
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上海伯东美国 KRI 霍尔离子源 eH 1000
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美国 KRI 离子源用于辅助沉积非晶硅红外光学薄膜
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上海伯东代理美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 10
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上海伯东代理美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 40
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上海伯东代理美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 75
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上海伯东代理美国 KRI 射频离子源 RFICP 40
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上海伯东美国 KRI 射频离子源 RFICP 100
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上海伯东美国 KRI 射频离子源 RFICP 140
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美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 160 辅助沉积高性能红外增透膜
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KRI 霍尔离子源辅助制备碳化硅改性薄膜
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HVA 真空阀门（真空闸阀）成功用于激光真空系统
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HVA 真空隔离闸阀 16000 系列
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